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《电子工业专用设备》双月刊 国家级

作者:润色论文网  来源:www.runselw.com  发布时间:2020/5/12 11:30:42  

基本信息

曾用刊名:半导体设备

主办单位:中国电子科技集团第四十五研究所

出版周期:双月

ISSN:1004-4507

CN:62-1077/TN

出版地:北京市

语种:中文

开本:大16开

创刊时间:1971

出版信息

专辑名称:信息科技

专题名称:无线电电子学

出版文献量:5313 篇

总下载次数:507635 次

总被引次数:11097 次

评价信息

(2019)复合影响因子:0.191

(2019)综合影响因子:0.080

期刊荣誉:

Caj-cd规范获奖期刊;

2020年01期收录论文目录

先进封装技术与设备

晶圆背面涂覆技术在IC封装中的应用 夏雷;周静;张宇昂;1-10

铜线键合设备焊接一致性探索 沈金华;11-14+35

先进光刻技术与设备

扫描投影光刻机电气安全诊断系统的设计与实现 潘菊凤;纪松林;谢仁飚;孙嘉伟;李笑天;15-19+49

激光刻蚀设备多工位定位技术研究 黄卫国;韩瑞;魏祥英;20-22

半导体制造工艺与设备

用于晶圆对位标记识别的模板匹配算法研究 杨帆;23-27

晶片干燥技术在高洁净湿法清洗设备中的应用 祝福生;郭立刚;夏楠君;王文丽;28-31

碳化硅晶圆划片技术研究 高爱梅;黄卫国;韩瑞;32-35

超薄晶圆减薄工艺研究 衣忠波;丛瑞;常庆麒;36-40+49

抛光参数对超薄晶圆表面抛光效果影响的研究 常庆麒;刘子阳;衣忠波;41-44+62

200mm硅单晶多线切割工艺及损伤层研究 张贺强;李聪;45-49

专用设备维护与保养

ICP工艺原理与故障分析 曹健;郝晓亮;王秀海;50-54

温水等静压机的原理与故障分析 韩建;55-57

蒸发台e型电子枪的工作原理与维修技术 侯立永;王秀海;58-62

电子专用设备研究

基于实时工业以太网的晶圆清洗设备控制系统设计 孙国峰;高建利;郭育澎;杜婷婷;张利军;63-67

行业快讯_业界要闻

2019年全球半导体设备商前10强榜单 67

泛林集团发布应用于EUV光刻的技术突破 68-69

2019年全球光刻机市场分析 69

物理气相沉积设备(PVD)2020年市场需求预测 69

5G加持半导体设备2020年销售额有望突破600亿美元 70

全球市场发展现状:中国大陆市场跃升全球第二位 70-71

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